低溫恒溫槽是自帶制冷和加熱的高精度恒溫源，可在機內水槽進行恒溫實驗，或通過軟管與其他設備相連，作為恒溫源配套使用。低溫恒溫槽泛用于石油、化工、電子儀表、物理、化學、生物工程、醫(yī)藥衛(wèi)生、生命科學、輕工食品、物性測試及化學分析等研究部門，高等院校，企業(yè)質檢及生產部門，低溫恒溫槽為用戶工作時提供一個熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，對試驗樣品或生產的產品進行恒定溫度試驗或測試，低溫恒溫槽也可作為直接加熱或制冷和輔助加熱或制冷的熱源或冷源。

　　低溫恒溫槽一般都是通過電阻絲來加熱、壓縮機制冷，輔助配以PID控制器，恒定一個比較標準的溫度，從而達到實驗目，其外殼采用金屬板，控制箱直接安裝在水箱上。低溫恒溫槽旁邊有冷凝水管進出水嘴兩只，水箱內采用進口水泵作為循環(huán)動力，解決了溫水不勻的弊病，使低溫恒溫槽的控溫精度和水的均勻度都能達到較高的要求。

　　低溫恒溫槽是一種超低溫制冷恒溫源。控溫精度高、溫場均勻性、穩(wěn)定性好，低溫恒溫槽采用單級自復疊式制冷，低溫恒溫槽屬國內*。可選配RS-232接口。低溫恒溫槽適用于航空航天及計量院所、科研領域和特殊部門需要。對一、二等標準水銀溫度計、貝克曼溫度計的檢定。

　　低溫恒溫槽制冷系統(tǒng)是采用銅管制作成蒸發(fā)器，為了提高電能利用率，將蒸發(fā)器直接置于水槽內，大大提高了制冷速率。低溫恒溫槽原理：制冷系統(tǒng)由4個基本部分即壓縮機、冷凝器、節(jié)流器、蒸發(fā)器組成。低溫恒溫槽由銅管將四大件按一定順序連接成一個封閉系統(tǒng)，系統(tǒng)內充注一定量的制冷劑。一般用制冷劑為氟里昂，以往通常采用的是R134，特殊要求采用新型的環(huán)保型制冷劑R407。壓縮機吸入來自蒸發(fā)器的低溫低壓的氟里昂氣體，經壓縮機壓縮成高溫高壓的氟里昂氣體（此時對外散發(fā)熱量），然后流經熱力膨脹閥（毛細管），節(jié)流成低溫低壓的氟里昂氣液兩相（氣體和液體混合物）物體，此時該混合物流進蒸發(fā)器時空間瞬間變大，液體全部變成氣體，在變化過程中制冷劑要吸收大量熱量，從而降低水槽內的水溫，此時又成為低溫低壓的氟里昂氣體，低溫低壓的氟里昂氣體又被壓縮機吸人。如此壓縮-----冷凝----節(jié)流----蒸發(fā)反復循環(huán)，制冷劑不斷帶走水槽內的熱量，從而降低了水的溫度。

　　為了提高水溫均勻性，同時為了建立外循環(huán)（第二恒溫場）必須加入水循環(huán)系統(tǒng)，根據(jù)低溫恒溫槽小和需要的循環(huán)量而選擇不同流量的循環(huán)泵。對于不同溫度要求的低溫恒溫槽，需要加入不同的制冷劑。

　　首先要全面準確地理解設低溫恒溫槽計任務書對設計的要求。掌握工藝生產的某些條件如工作溫度、允許溫差壓力、允許壓降、工作流體的物理和化學性質等。除此之外還應包括設備熱負荷、低溫恒溫槽可以提供的材料、加工條件等方面。這些資料是選型的依據(jù)、同時也是熱力計算的前提。

　　低溫恒溫槽對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。低溫恒溫槽對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。低溫恒溫槽其他產業(yè)用機器發(fā)熱部分的冷卻：等離子熔接、自動包裝機、模具冷卻、洗凈機械、鍍金槽、精密研磨機、射出成型機、樹脂成型機的成型部分等。低溫恒溫槽分析檢測機器的發(fā)熱部分的冷卻： 電子顯微鏡的光源、ICP發(fā)光分光分析裝置的光源部分、分光光度計的發(fā)熱部分、X線解析裝置的熱源、自動脈沖調幅器的發(fā)熱部分原子吸光光度計的光源等。水箱可用的純凈水在機內外循環(huán)冷卻，可保證對水質要求較高的精密儀器的正常運行，延長精密儀器的使用壽命。